歴代の受賞企業紹介

優秀賞:株式会社大和テクノシステムズ|第4回選考結果

代表取締役
佐藤 洋 (さとう ひろし)
所在地
東京都町田市
資本金
1,200万円
従業員数
21名
創業
昭和42年
事業の概要
理科学機器装置(電子顕微鏡、半導体検査装置など)の心臓部といわれる金属薄板アパーチャープレート(電子ビーム収束プレート)の開発を手掛ける。電子顕微鏡や半導体露光装置などは、電子ビームを検知して画像分解性能を上げていくが、このビームの収束度合が高いほど、非常に鮮明なビームエミッションが生まれる。そのため同社は、極小の3μ径の穴加工技術と独自のオスミウムによるコーティング処理技術の開発に着手し成功した。また、国内トップシェアだけでなく海外への事業拡大を視野に入れ、米国特許も取得している。

授賞理由

  • 独自のアパーチャープレート加工技術により、理科学機器装置の性能向上に貢献。
  • 更に独自のオスミウムコーティング技術により、連続稼動での保守が可能となり、メンテナンスの回数も減少したことで、トータルコストダウンに貢献。

企業紹介

アパーチャープレートの穴加工技術において、8年前に手作業で20μの穴を開けることに成功していたが、機械加工によりそれよりも小さな穴を開けることに成功した大手企業が現れ、注文が激減し会社は倒産の危機となった。そこで改めて穴加工技術の開発に取り組み、放電加工による現在の極小の穴加工に成功した。

一方、アパーチャープレートの穴は、電子ビームが常時通過しているため、周辺部が汚れたり、電子ビームの熱ダメージによる変形を起こしやすい状態となっており、それらがチャージアップ(滞電)といった不具合現象により分解能の劣化をもたらし、アパーチャープレート自体の寿命低下に悩まされていた。同社が開発したオスミウムコート処理は、一般的には観察用の生物試料面にコーティングするものであるが、アパーチャープレートといった金属表面上にコーティングするという独自の技術を確立したことで諸問題を解決した。理科学機器装置の連続稼動での保守やメンテナンス回数の減少などにより、トータルコストダウンにも寄与している。

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